●高流速、高分離能
●高い交換容量:25 mg/ml 以上
●硫安沈殿後のサンプルに

SOURCE™ HIC担体はタンパク質などの生体成分の分離に最適な孔径分布を持つ、粒径が15 μm の均一な球状であり、破損した断片や微粒子を含んでいません。均一な担体粒径と特別に調製された孔径分布により優れた流速特性を持ち、高流速による短時間での分離を可能にします。
RESOURCE™ HICは、疎水性の異なる3種類のリガンド(ETH, ISO, PHE)を持つSOURCE™ 15HIC担体が1 ml サイズのカラムに充填されています。

RESOURCE™ HICテストキット

条件検討用カラム
●目的物の精製に最適なリガンド検索に
HICの手法において特定の目的物を精製するためにはいくつかの疎水性の異なるリガンドを持つ担体を試し、最適なリガンドを決定しなければなりません。RESOURCE™ HICテストキットでは3種類のリガンドが幅広い選択性を持ち、目的物の精製に最も適した担体を選択することができます。


SOURCE™ 15HICカラム、担体

ÄKTA™design用にデザインされた大量精製用に、ボトル包装もご用意しております。


※RESOURCE™カラム使用上の注意
逆方向からの送液を行った場合、充填されている担体がわずかずつ漏れ出す可能性があります。通常使用およびカラム洗浄時においては、順方向での送液にてご使用ください。
詳細はこちらをご覧ください。

ご注文情報

製品 包装 コード番号 価格(円)
SDSあり。労安法(ラベル表示義務あり) RESOURCE™ HICテストキット 3 種×1 ml 17118701 販売終了
SDSあり。労安法(ラベル表示義務あり) RESOURCE™ ETH 1 ml 1 本 17118401 販売終了
SDSあり。労安法(ラベル表示義務あり) RESOURCE™ ISO 1 ml 1 本 17118501 問合せ
SDSあり。労安法(ラベル表示義務あり) RESOURCE™ PHE 1 ml 1 本 17118601 問合せ
SDSあり。労安法(ラベル表示義務あり) SOURCE™ 15ETH 50 ml 17014601 販売終了
SDSあり。労安法(ラベル表示義務あり) SOURCE™ 15ETH 200 ml 17014602 販売終了
SDSあり。労安法(ラベル表示義務あり) SOURCE™ 15PHE 200 ml 17014702 問合せ
SDSあり。労安法(ラベル表示義務あり) SOURCE™ 15ISO 200 ml 17014802 問合せ
SDSあり。労安法(ラベル表示義務あり) SOURCE™ 15PHE 4.6/100 PE 1 本 17518601 問合せ

SDSあり。労安法(ラベル表示義務あり) SDSあり。労働安全衛生法(ラベル表示義務あり)該当製品です。

詳細情報

項目

  • 仕様
  • 補足イメージ
  • テクニカルインフォメーション

SOURCE™ Media and Columns / RESOURCE™ Columns for HIC

リガンド
SOURCE™ 15ETH  Ether
SOURCE™ 15ISO  Isopropyl
SOURCE™ 15PHE  Phenyl
ゲルマトリックス
単分散ポリスチレン架橋ジビニルベンゼン
平均粒子径
15 μm
結合容量
25 mg albumin/ml ゲル
最大線流速*1
1,800 cm/h
推奨線流速
150~900 cm/h
化学的安定性
通常使われる溶液で安定*2
pH安定性
2~12(長期)、1~14(短期)
オートクレーブ
121℃、20分間


RESOURCE™カラム

カラムサイズ
0.64×3 cm
ベッド体積
1 ml
結合容量
25 mg albumin/ml ゲル
限界圧
1.5 MPa
最大流速*1
9.6 ml/min
推奨流速
0.8~4.8 ml/min


PEカラム

カラムサイズ
0.46×10 cm
ベッド体積
1.7 ml
限界圧
4 MPa
最大流速*1
5 ml/min
推奨流速
0.5~2.5 ml/min


流速換算式:流速(ml/min)=線流速(cm/h)×カラム断面積(cm2)÷60
1 MPa=10 bar=145 psi
*1 常温、H2Oの場合
*2 1 M HCl、2 M NaOH、20% エタノール、100% イソプロパノール、10% イソプロパノール/0.5 M NaOHに対し、40℃で7日間安定です。

RESOURCE™ PHEでの流速と分離能の関係

RESOURCE™ PHE/ISO/ETHでのリガンドと選択性の違い

RESOURCE™ / SOURCE™ Columns流速特性

RESOURCE™ / SOURCE™ Columns処理容量

SOURCE™ HIC担体の疎水性リガンド化学式