● プロセス開発のための小スケール条件検討に
● 初期精製や中間精製に最適
● 流動特性にすぐれ化学的、物理的に安定
疎水性リガンドが結合された高度架橋アガロースSepharose™ Fast FlowまたはSepharose™ High Performanceが充填されたカラムです。さまざまな種類のリガンドのうちサンプルに適した担体をお選びいただけます。アルカリ耐性が強いため0.5 ~ 1.0 M 水酸化ナトリウムによる定置洗浄(CIP)が可能です。
ご注文情報
詳細情報
項目
- 仕様
- 資料
HiScreen™カラム
担体容量 |
4.7 ml |
---|---|
カラムサイズ |
0.77×10 cm |
限界圧 |
HP 0.3MPa(3 bar) FF 0.15MPa(1.5 bar) |
HiScreen™ HIC
HiScreen™ Phenyl HP | HiScreen™ Phenyl FF (high sub) | HiScreen™ Phenyl FF (low sub) | |
---|---|---|---|
担体 | Phenyl Sepharose™ HP |
Phenyl Sepharose™ 6 Fast Flow (high sub) |
Phenyl Sepharose™ 6 Fast Flow (low sub) |
ゲルマトリックス | 6% 高度架橋アガロース |
6% 高度架橋アガロース |
6% 高度架橋アガロース |
リガンド導入率 | 25 μmol/ml ゲル |
40 μmol/ml ゲル |
25 μmol/ml ゲル |
平均粒子径 | 34 μm |
90 μm |
90 μm |
推奨線流速 | 30~150 cm/h |
300 cm/h |
300 cm/h |
最大線流速*1 | 150 cm/h |
450 cm/h |
450 cm/h |
pH安定性*2 |
短期:2~14 長期:3~13 |
短期:2~14 長期:3~13 |
短期:2~14 長期:3~13 |
限界圧 |
0.3 MPa |
0.15 MPa |
0.15 MPa |
HiScreen™ Butyl FF | HiScreen™ Butyl-S FF | HiScreen™ Octyl FF | |
---|---|---|---|
担体 | Butyl Sepharose™ 4 Fast Flow |
Butyl-S Sepharose™ 6 Fast Flow |
Octyl Sepharose™ 4 Fast Flow |
ゲルマトリックス | 4% 高度架橋アガロース |
6% 高度架橋アガロース |
4% 高度架橋アガロース |
リガンド導入率 | 40 μmol/ml ゲル |
10 μmol/ml ゲル |
5 μmol/ml ゲル |
平均粒子径 | 90 μm |
90 μm |
90 μm |
推奨線流速 | 150 cm/h |
300 cm/h |
150 cm/h |
最大線流速*1 | 240 cm/h |
450 cm/h |
240 cm/h |
pH安定性*2 |
短期:2~14 長期:3~13 |
短期:2~14 長期:3~13 |
短期:2~14 長期:3~13 |
限界圧 |
0.15 MPa |
0.15 MPa |
0.15 MPa |
* 1 常温、H2O の場合
* 2 pH 安定性(短期): カラムクリーニングの際に短時間接触できるpH 範囲です。
pH 安定性(長期): 担体の性能を大きく損なうことなく操作できるpH 範囲です。
注) ÄKTA™design を使用される場合、「限界圧0.3 MPa 以下のカラムを使用時のご注意点」を必ずご参照ください。
* 2 pH 安定性(短期): カラムクリーニングの際に短時間接触できるpH 範囲です。
pH 安定性(長期): 担体の性能を大きく損なうことなく操作できるpH 範囲です。
注) ÄKTA™design を使用される場合、「限界圧0.3 MPa 以下のカラムを使用時のご注意点」を必ずご参照ください。
HiScreen™ HIC カラムの選択性
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